Etude et modélisation des couches minces Cu-AL2O3 et Cu-SiO2 par la méthode du premeir principe

Abstract

Le travail presente dans ce memoire consiste en une etude a partir du premier principe "ab initio" du substrat du cuivre, des surfaces propres Cu(111) et Cu(001), ainsi que l'adsorption de l'foxygene sur ces structures. Les proprietes structurales et electroniques ont ete calculees a l'aide de la Theorie de la Fonctionnelle de la Densite (DFT). Les surfaces sont modelisees par la superposition de couches dپfatomes separees par un vide (modele de supercell). Les energies des liaisons de l'foxygene sur differents sites de la structure ont ete determinees et le site le plus stable a ete defini. La nature de la liaison entre les atomes Cu et O est discutee a partir de lپfanalyse de la densite de charges, son transfert, ainsi que la densite dپfetats electroniques de la structure. Nous avons egalement etudie l'finterface entre l'alumine (a-.Al2O3) et la silice (a-SiO2) sur les surfaces propres Cu(111) et Cu(001) respectivement. Les structures de bandes ont ete calculees pour les deux systemes et le transfert de charges au niveau de lپfinterface a ete etudie.