Sputter deposition of titanium and nickel thin films in radio frequency magnetron discharge characterized by optical emission spectroscopy and by rutherford backscattering spectrometry

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Veuillez utiliser cette adresse pour citer ce document : http://dlibrary.univ-boumerdes.dz:8080/handle/123456789/3758

Titre:	Sputter deposition of titanium and nickel thin films in radio frequency magnetron discharge characterized by optical emission spectroscopy and by rutherford backscattering spectrometry
Auteur(s):	Salhi, M. Abaidia, Seddik-El-Hak Mammeri, S. Bouaouina, Boudjemaa
Mots-clés:	Optical emission spectroscopy Magnetron sputtering Rutherford backscattering spectrometry Gas pressure Power density Average deposition rate
Date de publication:	2017
Editeur:	Elsevier
Collection/Numéro:	Thin Solid Films/ Vol.629 (2017);pp. 22-27
URI/URL:	http://dlibrary.univ-boumerdes.dz:8080/handle/123456789/3758
ISSN:	0040-6090
Collection(s) :	Publications Internationales

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M. Salhi, Résumé.pdf		25,92 kB	Adobe PDF	Voir/Ouvrir

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